Triméthylaluminium (TMAI)
Triméthylalumine (TMAI)
| Synonymes | Triméthylaluminium, Triméthylaluminium, Triméthanide d'aluminium, TMA, TMAL, AlMe3, Catalyseur Ziegler-Natta, Triméthyl-, Triméthylalane. |
| Numéro CAS | 75-24-1 |
| formule chimique | C6H18Al2 |
| Masse molaire | 144,17 g/mol, 72,09 g/mol (C3H9Al) |
| Apparence | Liquide incolore |
| Densité | 0,752 g/cm3 |
| Point de fusion | 15 °C (59 °F ; 288 K) |
| point d'ébullition | 125-130℃ (257-266 ℉, 398-403K) |
| Solubilité dans l'eau | Réagit |
| Pression de vapeur | 1,2 kPa (20 ℃), 9,24 kPa (60 ℃) |
| Viscosité | 1,12 CP (20 ℃), 0,9 CP (30 ℃) |
Triméthylaluminium (TMAl)Le TMAl, en tant que source de composés organométalliques (MO), est largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs et constitue un précurseur essentiel pour le dépôt de couches atomiques (ALD), le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD). Il est employé pour la préparation de films d'aluminium de haute pureté, tels que l'oxyde d'aluminium et le nitrure d'aluminium. De plus, le TMAl trouve de nombreuses applications comme catalyseur et agent auxiliaire dans les réactions de synthèse organique et de polymérisation.
Le triméthylaluminium (TMAI) sert de précurseur pour le dépôt d'oxyde d'aluminium et agit comme catalyseur de Ziegler-Natta. C'est également le précurseur d'aluminium le plus couramment utilisé dans la production par épitaxie en phase vapeur aux organométalliques (MOVPE). De plus, le TMAI est utilisé comme agent de méthylation et est fréquemment largué par les fusées-sondes comme traceur pour l'étude des vents atmosphériques en haute altitude.
Spécifications d'entreprise pour le triméthylaluminium à 99,9999 % - Faible teneur en silicium et en oxygène (6N TAMI - Faible teneur en Si et en Ox)
| Élément | Résultat | Spécification | Élément | Résultat | Spécification | Élément | Résultat | Spécification |
| Ag | ND | <0,03 | Cr | ND | <0,02 | S | ND | <0,05 |
| As | ND | <0,03 | Cu | ND | <0,02 | Sb | ND | <0,05 |
| Au | ND | <0,02 | Fe | ND | <0,04 | Si | ND | ≤0,003 |
| B | ND | <0,03 | Ge | ND | <0,05 | Sn | ND | <0,05 |
| Ba | ND | <0,02 | Hg | ND | <0,03 | Sr | ND | <0,03 |
| Be | ND | <0,02 | La | ND | <0,02 | Ti | ND | <0,05 |
| Bi | ND | <0,03 | Mg | ND | <0,02 | V | ND | <0,03 |
| Ca | ND | <0,03 | Mn | ND | <0,03 | Zn | ND | <0,05 |
| Cd | ND | <0,02 | Ni | ND | <0,03 | |||
| Co | ND | <0,02 | Pb | ND | <0,03 |
Note:
Valeur PPM en poids sur métal, et ND = non détecté
Méthode d'analyse : ICP-OES/ICP-MS
Résultats RMN-FT (la limite de détection pour les impuretés organiques et oxygénées en RMN-FT est de 0,1 ppm) :
Garantie d'oxygène < 0,2 ppm (mesuré par RMN-FT)
1. Aucune impureté organique détectée
2. Aucune impureté oxygénée détectée
À quoi sert le triméthylaluminium (TMAI) ?
Triméthylaluminium (TMA)- Applications et utilisations
Le triméthylaluminium (TMA) est un composé organoaluminique d'une pureté exceptionnelle, précurseur essentiel dans certains secteurs industriels de pointe. Sa réactivité et sa pression de vapeur remarquables en font un matériau de choix pour le dépôt de films d'aluminium de haute précision dans les technologies électroniques et énergétiques, ainsi qu'un composant fondamental dans la production de polyoléfines.
Notre TMA est fabriqué selon les normes de pureté les plus strictes, avec un contrôle rigoureux des impuretés élémentaires, oxygénées et organiques afin de garantir des performances optimales dans vos applications les plus exigeantes.
Principales applications et industries :
1. Fabrication de semi-conducteurs et de microélectronique
Dans l'industrie des semi-conducteurs, le TMA est indispensable pour le dépôt de couches minces avec une précision à l'échelle atomique.
* Diélectriques à constante diélectrique élevée : utilisés dans le dépôt de couches atomiques (ALD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour faire croître des films minces uniformes et sans trous d’épingle d’oxyde d’aluminium (Al₂O₃), qui servent de diélectriques de grille à constante diélectrique élevée dans les transistors et les dispositifs de mémoire avancés.
Semiconducteurs composés : Source d’aluminium privilégiée en épitaxie en phase vapeur aux organométalliques (MOVPE) pour la croissance de semi-conducteurs composés III-V hautes performances. Ces matériaux sont essentiels pour :
* Électronique haute fréquence : (par exemple, AlGaAs, AlInGaP)
* Optoélectronique : (par exemple, AlGaN, AlInGaN)
2. Énergie propre et photovoltaïque
Le TMA permet une efficacité et une durabilité accrues des technologies d'énergie solaire.
Couches de passivation de surface : Déposées par ALD ou CVD assistée par plasma (PECVD), les couches d’oxyde d’aluminium (Al₂O₃) de TMA assurent une passivation de surface exceptionnelle des cellules solaires en silicium cristallin. Ceci réduit considérablement la recombinaison des porteurs de charge, ce qui améliore significativement le rendement de conversion et la stabilité à long terme des cellules.
3. Éclairage et affichage avancés (LED)
La production de LED à haute luminosité et à faible consommation d'énergie repose sur l'utilisation de TMA de haute pureté.
* Épitaxie LED : Sert de précurseur d'aluminium dans les réacteurs MOVPE pour faire croître les couches actives (par exemple, AlGaN) dans les LED bleues, vertes et ultraviolettes.
* Passivation des dispositifs : Utilisée pour déposer des films protecteurs d’oxyde d’aluminium ou de nitrure d’aluminium qui améliorent l’efficacité d’extraction optique et prolongent la durée de vie opérationnelle des dispositifs LED.
4. Catalyse industrielle et production de polymères
L'importance industrielle du TMA réside dans son rôle en catalyse.
* Catalyse des polyoléfines : Il s’agit du principal matériau de départ pour la synthèse du méthylaluminoxane (MAO), un cocatalyseur essentiel dans les systèmes catalytiques Ziegler-Natta et métallocènes. Ces systèmes produisent la grande majorité des plastiques polyéthylène et polypropylène utilisés dans le monde.
Caractéristiques et avantages clés :
* Pureté ultra-élevée : Contrôle méticuleux pour minimiser les impuretés qui dégradent les performances électroniques et l’activité catalytique.
* Précurseur de qualité supérieure : offre une excellente volatilité, une stabilité thermique et des caractéristiques de décomposition propres pour un dépôt de film de haute qualité.
* Norme industrielle : La source d’aluminium établie et fiable pour les procédés MOVPE, ALD et CVD dans les installations de R&D et de production du monde entier.
* Base pour les plastiques : une matière première essentielle permettant la production de polymères polyoléfines polyvalents et indispensables.
Avertissement : Le triméthylaluminium est un matériau pyrophorique et sensible à l’humidité qui nécessite des précautions particulières et le respect de protocoles de sécurité spécifiques. Les informations fournies sont données à titre indicatif. Il appartient à l’utilisateur de manipuler ce matériau conformément aux consignes de sécurité applicables et de déterminer son adéquation à l’application prévue.
