benear1

Produkter

Hafniumtetraklorid (HfCl₄) är en högvärdig oorganisk förening som används i stor utsträckning som prekursor vid syntes av avancerad högtemperaturkeramik, fosformaterial för högeffektslysdioder (LED) och heterogena katalysatorer. Det är värt att notera att den uppvisar exceptionell Lewis-syrahalt, vilket gör den mycket effektiv vid olefinpolymerisation och olika organiska omvandlingar. Driven av expanderande tillämpningar inom halvledartillverkning, flyg- och rymdteknik och nästa generations elektroniska material har den globala efterfrågan på HfCl₄ visat en fortsatt tillväxt. Emellertid är dess industriella produktion fortfarande tekniskt krävande – vilket kräver strikt processkontroll, råvaror med ultrahög renhet och efterlevnad av rigorösa miljö-, hälso- och säkerhetsföreskrifter (EHS). Med tanke på dess avgörande roll för att möjliggöra högpresterande funktionella material och specialkatalysatorer är HfCl₄ alltmer erkänt som ett strategiskt råmaterial för avancerad materialvetenskap och finkemisk syntes.
  • Hafniumtetraklorid

    Hafniumtetraklorid

    Hafniumtetraklorid (HfCl₄)är en högvärdig oorganisk förening som används i stor utsträckning som prekursor vid syntes av avancerad högtemperaturkeramik, fosformaterial för högeffektslysdioder (LED) och heterogena katalysatorer. Den uppvisar särskilt exceptionell Lewis-syrahalt, vilket gör den mycket effektiv vid olefinpolymerisation och olika organiska omvandlingar. Driven av expanderande tillämpningar inom halvledartillverkning, flyg- och rymdteknik och nästa generations elektroniska material har den globala efterfrågan på HfCl₄ visat en fortsatt tillväxt. Emellertid är dess produktion i industriell skala fortfarande tekniskt krävande – vilket kräver strikt processkontroll, råvaror med ultrahög renhet och efterlevnad av rigorösa miljö-, hälso- och säkerhetsföreskrifter (EHS). Med tanke på dess avgörande roll för att möjliggöra högpresterande funktionella material och specialkatalysatorer är HfCl₄ alltmer erkänt som ett strategiskt råmaterial för avancerad materialvetenskap och finkemisk syntes.

    Hafnium, 72Hf
    Utseende Stålgrå
    Atomnummer (Z) 72
    Fas vid avloppsreningsverk Fast
    Smältpunkt 2506 K (2233 ℃, 4051 ℉)
    Kokpunkt 4876 K (4603 ℃, 8317 ℃)
    Densitet (vid 20 ℃) 13,281 g/cm²3
    När den är flytande (vid smp) 12 g/cm²3
    Smältvärme 27,2 kJ/mol
    Förångningsvärme 648 kJ/mol
    Molär värmekapacitet 25,73 J/(mol·K)
    Specifik värmekapacitet 144,154 J/(kg·K)

    Företagsstandard för 5N renhetsgrad hafniumtetraklorid

    Symbol Li 7 (ppb) Var 9 (ppb) Na23 (ppb) Mg24 (ppb) Al 27 (ppb) K 39 (ppb) Ca 40 (ppb) V 51 (ppb) Cr 52 (ppb) Mn 55 (ppb) Fe 56 (ppb) Co 59 (ppb) Ni 60 (ppb) Cu 63 (ppb) Zn 66 (ppb) Ga 69 (ppb) Ge 74 (ppb) Sr 87 (ppb)
    UMHT5N 0,371 2,056 17,575 6,786 87,888 31,963 66,976 0,000 74,184 34,945 1413,776 21,639 216,953 2,194 20.241 12,567 8,769 3846,227
    Zr 90 (ppb) Nb 93 (ppb) Mo98 (ppb) Pd106 (ppb) Ag 107 (ppb) Som 108 (ppb) Cd 111 (ppb) I 115 (ppb) Sn 118 (ppb) Sb 121 (ppb) Ti131 (ppb) Ba 138 (ppb) W 184 (ppb) Au -2197 (ppb) Hg 202 (ppb) Tl 205 (ppb) Pb 208 (ppb) Bi 209 (ppb)
    41997,655 8,489 181,362 270,662 40,536 49,165 5,442 0,127 26,237 1,959 72,198 0,776 121,391 1707.062 68,734 0,926 14,582 36,176

    Kommentar: Ovanstående parametrar detekterades av ICP-MS.

    Hafniumtetraklorid (HfCl₄) är ett färglöst, kristallint fast ämne med en molekylvikt på 320,30 g/mol och CAS-registreringsnummer 13499-05-3. Det smälter vid 320 °C och sublimerar vid cirka 317 °C under omgivningstryck. Föreningen är extremt hygroskopisk och reagerar exotermt och kraftigt med fukt, vilket kräver lagring under vattenfria, inerta atmosfäriska förhållanden (t.ex. argon eller kväve) i tätt förslutna behållare. På grund av dess starka frätande effekt kan direktkontakt med hud eller ögon leda till allvarliga kemiska brännskador. Som ett frätande farligt ämne i klass 8 (UN2509) kräver hantering lämplig personlig skyddsutrustning (PPE), inklusive kemikalieresistenta handskar, skyddsglasögon och andningsskydd där dammbildning är möjlig.

    Vad används hafniumtetraklorid till?

    Hafniumtetraklorid (HfCl₄)är en mångsidig oorganisk förening som, tack vare sina unika kemiska egenskaper, finner omfattande tillämpningar inom ett flertal högteknologiska områden:

    - Halvledare och elektroniska material: Det fungerar som en viktig prekursor för framställning av material med hög dielektricitetskonstant (såsom hafniumdioxid), som används i transistorgrindisoleringsskikt för att avsevärt förbättra chipprestanda. Det används också i stor utsträckning i kemisk ångavsättning (CVD) för att avsätta metalliskt hafnium eller hafniumföreningstunnfilmer, tillämpade i högpresterande transistorer, minnesenheter etc.

    - Ultrahögtemperaturkeramik och flyg- och rymdteknik: Används vid tillverkning av ultrahögtemperaturkeramikmaterial, som uppvisar utmärkt högtemperaturbeständighet, slitstyrka och korrosionsbeständighet. Dessa keramikmaterial är lämpliga för extrema miljöer, såsom varma sektioner i flygmotorer och raketmunstycken. Dessutom kan de användas i förpackningsmaterial för högpresterande LED-lampor för att förbättra värmeavledning och livslängd för enheter.

    - Katalys och organisk syntes: Som en effektiv Lewis-syrakatalysator främjar den reaktioner som olefinpolymerisation (t.ex. som en prekursor för Ziegler-Natta-katalysatorer), förestring av alkoholer och syror, acylering och 1,3-dipolära cykloadditioner, vilket förbättrar reaktionshastigheter och selektivitet. Den används också i finkemisk syntes av dofter och läkemedel.

    - Kärnkraftsindustrin: Tack vare sin goda termiska och kemiska stabilitet används den i kylsystem för kärnreaktorer och som beläggningsmaterial för kärnbränslen, vilket förbättrar korrosionsbeständigheten och den termiska stabiliteten.

    - Energisektorn: Används som råmaterial för att syntetisera fasta elektrolytmaterial som litiumhafniumfosfat för utveckling av litiumbatterier med hög jonledningsförmåga. Det fungerar också som en föregångare till högkapacitetskatodmaterial i litium- och natriumjonbatterier.

    - Zirkonium-hafniumseparation: Genom att utnyttja skillnaden i flyktighet mellan zirkoniumtetraklorid och hafniumtetraklorid kan de effektivt separeras via fraktionerad destillation eller gaskromatografi. Detta är en viktig industriell metod för att utvinna rent hafnium.

    Sammanfattningsvis spelar hafniumtetraklorid en oersättlig roll inom halvledare, avancerade material, katalys, kärnenergi och nya energisektorer, och etablerar sig som en central råvara i moderna högteknologiska industrier.