
Trimetilaluman (TMAI)
| Sinonime | Trimetilaluminiu, Trimetil de aluminiu, Trimetanură de aluminiu, TMA, TMAL, AlMe3, Catalizator Ziegler-Natta, Trimetil-, Trimetilalan. |
| Număr CAS | 75-24-1 |
| Formula chimică | C6H18Al2 |
| Masa molară | 144,17 g/mol, 72,09 g/mol (C3H9Al) |
| Aspect | Lichid incolor |
| Densitate | 0,752 g/cm³ |
| Punct de topire | 15℃ (288K) |
| Punct de fierbere | 125-130℃ (257-266 ℉, 398-403K) |
| Solubilitate în apă | Reacționează |
| Presiunea de vapori | 1,2 kPa (20℃), 9,24 kPa (60℃) |
| Viscozitate | 1,12 cP (20℃), 0,9 cP (30℃) |
Trimetilaluminiu (TMAl), ca sursă metalo-organică (MO), este utilizată pe scară largă în industria semiconductorilor și servește ca precursor cheie pentru depunerea straturilor atomice (ALD), depunerea chimică din faza de vapori (CVD) și depunerea chimică din faza de vapori metalo-organică (MOCVD). Este utilizată pentru a prepara pelicule care conțin aluminiu de înaltă puritate, cum ar fi oxidul de aluminiu și nitrura de aluminiu. În plus, TMAl își găsește aplicații extinse ca și catalizator și agent auxiliar în reacțiile de sinteză organică și polimerizare.
Trimetilaluminiul (TMAI) acționează ca precursor pentru depunerea oxidului de aluminiu și funcționează ca un catalizator Ziegler-Natta. Este, de asemenea, cel mai frecvent utilizat precursor de aluminiu în producerea epitaxiei în fază de vapori metalo-organică (MOVPE). În plus, TMAI servește ca agent de metilare și este frecvent eliberat de rachetele de sondare ca trasor pentru studierea modelelor de vânturi din atmosfera superioară.
Specificații pentru întreprinderi de trimetilaluminiu 99,9999% - conținut scăzut de siliciu și oxigen (6N TAMI - conținut scăzut de Si și conținut scăzut de Ox)
| Element | Rezultat | Specificații | Element | Rezultat | Specificații | Element | Rezultat | Specificații |
| Ag | ND | <0,03 | Cr | ND | <0,02 | S | ND | <0,05 |
| As | ND | <0,03 | Cu | ND | <0,02 | Sb | ND | <0,05 |
| Au | ND | <0,02 | Fe | ND | <0,04 | Si | ND | ≤0,003 |
| B | ND | <0,03 | Ge | ND | <0,05 | Sn | ND | <0,05 |
| Ba | ND | <0,02 | Hg | ND | <0,03 | Sr | ND | <0,03 |
| Be | ND | <0,02 | La | ND | <0,02 | Ti | ND | <0,05 |
| Bi | ND | <0,03 | Mg | ND | <0,02 | V | ND | <0,03 |
| Ca | ND | <0,03 | Mn | ND | <0,03 | Zn | ND | <0,05 |
| Cd | ND | <0,02 | Ni | ND | <0,03 | |||
| Co | ND | <0,02 | Pb | ND | <0,03 |
Nota:
PPM în greutate pe metal, iar ND = nedetectat, sunt valori mai mari decât toate.
Metodă de analiză: ICP-OES/ICP-MS
Rezultate FT-RMN (LOD pentru impuritățile organice și oxigenate FT-RMN este de 0,1 ppm):
Garanție de oxigen <0,2 ppm (măsurat în FT-RMN)
1. Nu s-au detectat impurități organice
2. Nu s-au detectat impurități oxigenate
La ce se utilizează trimetilaluminiul (TMAI)?
Trimetilaluminiu (TMA)- Aplicații și utilizări
Trimetilaluminiul (TMA) este un compus organoaluminic de puritate ultra-înaltă, care servește drept precursor critic în unele dintre cele mai avansate sectoare de producție. Reactivitatea și presiunea sa de vapori excepționale îl fac materialul preferat pentru depunerea de pelicule precise care conțin aluminiu în electronică și tehnologii energetice, precum și o componentă fundamentală în producția de poliolefine.
TMA-ul nostru este fabricat conform celor mai stricte standarde de puritate, cu un control riguros asupra impurităților elementare, oxigenate și organice pentru a asigura performanțe optime în cele mai solicitante aplicații.
Aplicații și industrii principale:
1. Fabricarea semiconductorilor și a microelectronicei
În industria semiconductorilor, TMA este indispensabilă pentru depunerea de pelicule subțiri cu precizie la scară atomică.
* Dielectrici cu k ridicat: utilizați în depunerea de straturi atomice (ALD) și depunerea chimică din vapori (CVD) pentru a crea pelicule subțiri uniforme, fără pori de ac, de oxid de aluminiu (Al₂O₃), care servesc ca dielectrici de poartă cu k ridicat în tranzistoare și dispozitive de memorie avansate.
* Semiconductori compuși: Sursa preferată de aluminiu în epitaxia în fază de vapori metalorganică (MOVPE) pentru dezvoltarea de semiconductori compuși III-V de înaltă performanță. Aceste materiale sunt esențiale pentru:
* Electronică de înaltă frecvență: (de exemplu, AlGaAs, AlInGaP)
* Optoelectronică: (de exemplu, AlGaN, AlInGaN)
2. Energie curată și fotovoltaică
TMA permite o eficiență și o durabilitate mai mari în tehnologiile energiei solare.
* Straturi de pasivizare a suprafeței: Depuse prin ALD sau CVD îmbunătățit cu plasmă (PECVD), peliculele de oxid de aluminiu (Al₂O₃) de la TMA oferă o pasivizare a suprafeței remarcabilă pentru celulele solare de siliciu cristalin. Acest lucru reduce drastic recombinarea purtătorilor de sarcină, ducând la câștiguri semnificative în eficiența conversiei celulare și la stabilitatea pe termen lung.
3. Iluminare și afișare avansate (LED)
Producția de LED-uri cu luminozitate ridicată și eficiență energetică se bazează pe TMA de înaltă puritate.
* Epitaxie LED: Servește ca precursor de aluminiu în reactoarele MOVPE pentru a crește straturile active (de exemplu, AlGaN) în LED-urile albastre, verzi și ultraviolete.
* Pasivizarea dispozitivelor: Folosită pentru depunerea de pelicule protectoare de oxid de aluminiu sau nitrură de aluminiu care îmbunătățesc eficiența extracției optice și prelungesc durata de viață a dispozitivelor LED.
4. Cataliza industrială și producția de polimeri
Importanța industrială a TMA este înrădăcinată în rolul său în cataliză.
* Cataliza poliolefinelor: Este principalul material de pornire pentru sinteza metil-aluminoxanului (MAO), un co-catalizator crucial în sistemele catalitice Ziegler-Natta și metalocen. Aceste sisteme produc marea majoritate a materialelor plastice din polietilenă și polipropilenă din lume.
Caracteristici și beneficii cheie:
* Puritate ultra-înaltă: Controlată meticulos pentru a minimiza impuritățile care degradează performanța electronică și activitatea catalitică.
* Precursor superior: Oferă volatilitate excelentă, stabilitate termică și caracteristici de descompunere curate pentru depunerea peliculei de înaltă calitate.
* Standard industrial: Sursa de aluminiu consacrată și de încredere pentru procesele MOVPE, ALD și CVD în cadrul unităților globale de cercetare și dezvoltare și producție.
* Fundație pentru materiale plastice: O materie primă cheie care permite producerea de polimeri poliolefinici versatili și esențiali.
Declinare de responsabilitate: Trimetilaluminiul este un material piroforic și sensibil la umiditate, care necesită protocoale speciale de manipulare și siguranță. Informațiile furnizate au scop descriptiv. Este responsabilitatea utilizatorului să manipuleze acest material în conformitate cu toate instrucțiunile de siguranță aplicabile și să determine dacă este adecvat pentru o anumită aplicație.