dekat1

Trimetilaluminium (TMAI)

Deskripsi Singkat:

Trimetilaluminium (TMAI) adalah bahan baku penting untuk produksi sumber metal-organik lainnya yang digunakan dalam proses deposisi lapisan atom (ALD) dan deposisi uap kimia (CVD).

Trimetilaluminium merupakan salah satu senyawa organoaluminium paling sederhana. Meskipun namanya menunjukkan struktur monomerik, sebenarnya rumus kimianya adalah Al2(CH3)6 (disingkat Al2Me6 atau TMAI), yang ada sebagai dimer. Cairan tak berwarna ini bersifat piroforik dan memainkan peran penting dalam industri, yang terkait erat dengan trietilaluminium.

UrbanMines termasuk di antara pemasok Trimethylaluminum (TMAI) terkemuka di Tiongkok. Dengan memanfaatkan teknik produksi canggih kami, kami menawarkan TMAI dengan berbagai tingkat kemurnian, yang dirancang khusus untuk aplikasi di industri semikonduktor, sel surya, dan LED.


Detail Produk

Trimethylalumane (TMAI)

Sinonim Trimetilaluminium, Aluminium Trimetil, Aluminium Trimetanida, TMA, TMAL, AlMe3, Katalis Ziegler-Natta, Trimetil-, Trimetilalana.
Nomor CAS 75-24-1
Rumus kimia C6H18Al2
Massa molar 144,17 g/mol, 72,09 g/mol (C3H9Al)
Penampilan Cairan tidak berwarna
Kepadatan 0,752 g/cm3
Titik lebur 15℃ (59 ℉; 288K)
Titik didih 125--130℃ (257--266 ℉, 398--403K)
Kelarutan dalam air Bereaksi
Tekanan uap 1,2 kPa (20℃), 9,24 kPa (60℃)
Viskositas 1,12 cP (20℃), 0,9 cP (30℃)

 

Trimetilaluminium (TMAl)TMAl, sebagai sumber metal-organik (MO), banyak digunakan dalam industri semikonduktor dan berfungsi sebagai prekursor utama untuk deposisi lapisan atom (ALD), deposisi uap kimia (CVD), dan deposisi uap kimia metal-organik (MOCVD). TMAl digunakan untuk menyiapkan film yang mengandung aluminium dengan kemurnian tinggi, seperti aluminium oksida dan aluminium nitrida. Selain itu, TMAl banyak digunakan sebagai katalis dan agen pembantu dalam sintesis organik dan reaksi polimerisasi.

Trimetilaluminium (TMAI) bertindak sebagai prekursor untuk pengendapan aluminium oksida dan berfungsi sebagai katalis Ziegler-Natta. Ia juga merupakan prekursor aluminium yang paling umum digunakan dalam produksi epitaksi fasa uap metal-organik (MOVPE). Lebih lanjut, TMAI berfungsi sebagai agen metilasi dan sering dilepaskan dari roket sounding sebagai penanda untuk mempelajari pola angin di atmosfer bagian atas.

 

Spesifikasi perusahaan Trimetilaluminium 99,9999% - Kandungan silikon rendah dan oksigen rendah (6N TAMI-Low Si and Low Ox)

Elemen Hasil Spesifikasi Elemen Hasil Spesifikasi Elemen Hasil Spesifikasi
Ag ND <0,03 Cr ND <0,02 S ND <0,05
As ND <0,03 Cu ND <0,02 Sb ND <0,05
Au ND <0,02 Fe ND <0,04 Si ND ≤0,003
B ND <0,03 Ge ND <0,05 Sn ND <0,05
Ba ND <0,02 Hg ND <0,03 Sr ND <0,03
Be ND <0,02 La ND <0,02 Ti ND <0,05
Bi ND <0,03 Mg ND <0,02 V ND <0,03
Ca ND <0,03 Mn ND <0,03 Zn ND <0,05
Cd ND <0,02 Ni ND <0,03
Co ND <0,02 Pb ND <0,03

Catatan:

Di atas semua nilai PPM berdasarkan berat logam, dan ND = tidak terdeteksi

Metode Analisis: ICP-OES/ICP-MS

Hasil FT-NMR (LOD untuk pengotor organik dan beroksigen pada FT-NMR adalah 0,1 ppm):

Jaminan oksigen <0,2 ppm (Diukur dengan FT-NMR)

1. Tidak ditemukan pengotor organik.

2. Tidak terdeteksi adanya pengotor beroksigen.

 

Untuk apa Trimetilaluminium (TMAI) digunakan?

Trimetilaluminium (TMA)- Aplikasi dan Penggunaan

Trimetilaluminium (TMA) adalah senyawa organoaluminium dengan kemurnian sangat tinggi yang berfungsi sebagai prekursor penting di beberapa sektor manufaktur paling canggih. Reaktivitas dan tekanan uapnya yang luar biasa menjadikannya material pilihan untuk pengendapan film yang mengandung aluminium secara presisi dalam teknologi elektronik dan energi, serta sebagai komponen dasar dalam produksi poliolefin.

TMA kami diproduksi dengan standar kemurnian yang paling ketat, dengan kontrol yang cermat terhadap pengotor unsur, beroksigen, dan organik untuk memastikan kinerja optimal dalam aplikasi Anda yang paling menuntut.

Aplikasi dan Industri Utama:

1. Fabrikasi Semikonduktor & Mikroelektronika

Dalam industri semikonduktor, TMA sangat diperlukan untuk pengendapan lapisan tipis dengan presisi skala atom.

* Dielektrik High-k: Digunakan dalam Atomic Layer Deposition (ALD) dan Chemical Vapor Deposition (CVD) untuk menumbuhkan lapisan tipis aluminium oksida (Al₂O₃) yang seragam dan bebas lubang, yang berfungsi sebagai dielektrik gerbang high-k dalam transistor dan perangkat memori canggih.

* Semikonduktor Senyawa: Sumber aluminium pilihan dalam Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (MOVPE) untuk menumbuhkan semikonduktor senyawa III-V berkinerja tinggi. Material ini sangat penting untuk:

* Elektronik Frekuensi Tinggi: (misalnya, AlGaAs, AlInGaP)

* Optoelektronik: (misalnya, AlGaN, AlInGaN) 

2. Energi Bersih & Fotovoltaik

TMA memungkinkan efisiensi dan daya tahan yang lebih tinggi dalam teknologi energi surya.

* Lapisan Pasivasi Permukaan: Dideposisikan melalui ALD atau Plasma-Enhanced CVD (PECVD), lapisan aluminium oksida (Al₂O₃) dari TMA memberikan pasivasi permukaan yang luar biasa untuk sel surya silikon kristal. Hal ini secara drastis mengurangi rekombinasi pembawa muatan, yang menghasilkan peningkatan signifikan dalam efisiensi konversi sel dan stabilitas jangka panjang.

3. Pencahayaan & Tampilan Canggih (LED)

Produksi LED dengan kecerahan tinggi dan hemat energi bergantung pada TMA dengan kemurnian tinggi.

* Epitaksi LED: Berfungsi sebagai prekursor aluminium dalam reaktor MOVPE untuk menumbuhkan lapisan aktif (misalnya, AlGaN) pada LED biru, hijau, dan ultraviolet.

* Pasivasi Perangkat: Digunakan untuk melapisi film aluminium oksida atau aluminium nitrida pelindung yang meningkatkan efisiensi ekstraksi optik dan memperpanjang masa pakai perangkat LED.

4. Katalisis Industri & Produksi Polimer

Signifikansi industri TMA berakar pada perannya dalam katalisis.

* Katalisis Poliolefin: Ini adalah bahan baku utama untuk sintesis Metilaluminoksana (MAO), ko-katalis penting dalam sistem katalis Ziegler-Natta dan metalosena. Sistem ini menghasilkan sebagian besar plastik polietilen dan polipropilen di dunia.

Karakteristik & Manfaat Utama:

* Kemurnian Sangat Tinggi: Dikendalikan secara cermat untuk meminimalkan pengotor yang menurunkan kinerja elektronik dan aktivitas katalitik.

* Prekursor Unggul: Menawarkan volatilitas, stabilitas termal, dan karakteristik dekomposisi yang bersih yang sangat baik untuk pengendapan film berkualitas tinggi.

* Standar Industri: Sumber aluminium yang mapan dan tepercaya untuk proses MOVPE, ALD, dan CVD di seluruh fasilitas R&D dan produksi global.

* Fondasi untuk Plastik: Bahan baku utama yang memungkinkan produksi polimer poliolefin yang serbaguna dan penting.

Penafian: Trimetilaluminium adalah bahan piroforik dan sensitif terhadap kelembapan yang memerlukan penanganan khusus dan protokol keselamatan. Informasi yang diberikan bersifat deskriptif. Merupakan tanggung jawab pengguna untuk menangani bahan ini sesuai dengan semua pedoman keselamatan yang berlaku dan untuk menentukan kesesuaiannya untuk aplikasi tertentu.

 


Tulis pesan Anda di sini dan kirimkan kepada kami.