
Триметилалюман (ТМАИ)
| Синонимы | Триметилалюминий, триметилалюминий, триметанид алюминия, ТМА, ТМАЛ, AlMe3, катализатор Циглера-Натта, триметил-, триметилалан. |
| Номер дела | 75-24-1 |
| Химическая формула | C6H18Al2 |
| Молярная масса | 144,17 г/моль, 72,09 г/моль (C3H9Al) |
| Появление | Бесцветная жидкость |
| Плотность | 0,752 г/см³ |
| Температура плавления | 15℃ (59 ℉; 288K) |
| Температура кипения | 125–130℃ (257–266℉, 398–403K) |
| Растворимость в воде | Реакции |
| давление пара | 1,2 кПа (20 ℃), 9,24 кПа (60 ℃) |
| Вязкость | 1,12 сП (20 ℃), 0,9 сП (30 ℃) |
Триметилалюминий (ТМАль)TMAl, как источник металлоорганических соединений (МО), широко используется в полупроводниковой промышленности и служит ключевым прекурсором для атомно-слоевого осаждения (ALD), химического осаждения из газовой фазы (CVD) и металлоорганического химического осаждения из газовой фазы (MOCVD). Он применяется для получения высокочистых пленок, содержащих алюминий, таких как оксид алюминия и нитрид алюминия. Кроме того, TMAl находит широкое применение в качестве катализатора и вспомогательного агента в органическом синтезе и реакциях полимеризации.
Триметилалюминий (ТМАИ) выступает в качестве прекурсора для осаждения оксида алюминия и функционирует как катализатор Циглера-Натта. Он также является наиболее часто используемым прекурсором алюминия в производстве металлоорганической парофазной эпитаксии (МЭПГ). Кроме того, ТМАИ используется в качестве метилирующего агента и часто выпускается из зондирующих ракет в качестве трассера для изучения ветровых потоков в верхних слоях атмосферы.
Спецификация предприятия: 99,9999% триметилалюминий — низкое содержание кремния и кислорода (6N TAMI — низкое содержание Si и Ox).
| Элемент | Результат | Спецификация | Элемент | Результат | Спецификация | Элемент | Результат | Спецификация |
| Ag | ND | <0,03 | Cr | ND | <0,02 | S | ND | <0,05 |
| As | ND | <0,03 | Cu | ND | <0,02 | Sb | ND | <0,05 |
| Au | ND | <0,02 | Fe | ND | <0,04 | Si | ND | ≤0,003 |
| B | ND | <0,03 | Ge | ND | <0,05 | Sn | ND | <0,05 |
| Ba | ND | <0,02 | Hg | ND | <0,03 | Sr | ND | <0,03 |
| Be | ND | <0,02 | La | ND | <0,02 | Ti | ND | <0,05 |
| Bi | ND | <0,03 | Mg | ND | <0,02 | V | ND | <0,03 |
| Ca | ND | <0,03 | Mn | ND | <0,03 | Zn | ND | <0,05 |
| Cd | ND | <0,02 | Ni | ND | <0,03 | |||
| Co | ND | <0,02 | Pb | ND | <0,03 |
Примечание:
Все значения указаны в частях на миллион (PPM) по весу металла, а ND = не обнаружено.
Метод анализа: ICP-OES/ICP-MS
Результаты FT-ЯМР (предел обнаружения органических и кислородсодержащих примесей в FT-ЯМР составляет 0,1 ppm):
Гарантированное содержание кислорода <0,2 ppm (измерено методом FT-NMR)
1. Органические примеси не обнаружены.
2. Примеси кислорода не обнаружены.
Для чего используется триметилалюминий (ТМАИ)?
Триметилалюминий (ТМА)- Области применения и использования
Триметилалюминий (ТМА) — это сверхчистое органическое соединение алюминия, являющееся важнейшим прекурсором в некоторых из самых передовых производственных отраслей. Его исключительная реакционная способность и давление пара делают его предпочтительным материалом для нанесения точных пленок, содержащих алюминий, в электронике и энергетических технологиях, а также основополагающим компонентом в производстве полиолефинов.
Наш ТМА производится в соответствии с самыми строгими стандартами чистоты, с тщательным контролем содержания элементарных, кислородсодержащих и органических примесей, что обеспечивает оптимальную производительность в самых сложных условиях эксплуатации.
Основные области применения и отрасли:
1. Производство полупроводников и микроэлектроники
В полупроводниковой промышленности ТМА незаменим для осаждения тонких пленок с точностью до атомного масштаба.
* Высокодиэлектрические материалы: используются в методах атомно-слоевого осаждения (ALD) и химического осаждения из газовой фазы (CVD) для выращивания однородных тонких пленок оксида алюминия (Al₂O₃) без микропор, которые служат в качестве высокодиэлектрических материалов затвора в современных транзисторах и устройствах памяти.
* Составные полупроводники: Предпочтительный источник алюминия в металлоорганической парофазной эпитаксии (MOVPE) для выращивания высокоэффективных полупроводников на основе соединений III-V групп. Эти материалы необходимы для:
* Высокочастотная электроника: (например, AlGaAs, AlInGaP)
* Оптоэлектроника: (например, AlGaN, AlInGaN)
2. Экологически чистая энергия и фотовольтаика
Технология TMA обеспечивает повышение эффективности и долговечности солнечных энергетических технологий.
* Поверхностные пассивирующие слои: Пленки оксида алюминия (Al₂O₃), осажденные методом ALD или плазменно-усиленного химического осаждения из газовой фазы (PECVD) из TMA, обеспечивают превосходную пассивацию поверхности кристаллических кремниевых солнечных элементов. Это значительно снижает рекомбинацию носителей заряда, что приводит к существенному повышению эффективности преобразования и долговременной стабильности элемента.
3. Передовые технологии освещения и отображения (LED)
Производство высокоярких и энергоэффективных светодиодов основано на использовании высокочистого ТМА.
* Эпитаксия светодиодов: используется в качестве прекурсора алюминия в реакторах MOVPE для выращивания активных слоев (например, AlGaN) в синих, зеленых и ультрафиолетовых светодиодах.
* Пассивация устройства: Используется для нанесения защитных пленок из оксида алюминия или нитрида алюминия, которые повышают эффективность оптического извлечения и продлевают срок службы светодиодных устройств.
4. Промышленный катализ и производство полимеров
Промышленное значение ТМА обусловлено его ролью в катализе.
* Катализ полиолефинов: Это основной исходный материал для синтеза метилалюмоксана (МАО), важнейшего сокатализатора в каталитических системах Циглера-Натта и металлоценовых катализаторах. Эти системы производят подавляющее большинство полиэтилена и полипропилена в мире.
Основные характеристики и преимущества:
* Сверхвысокая чистота: Тщательно контролируется для минимизации примесей, ухудшающих электронные характеристики и каталитическую активность.
* Превосходный прекурсор: обладает отличной летучестью, термической стабильностью и чистыми характеристиками разложения для получения высококачественных пленок.
* Отраслевой стандарт: проверенный и надежный поставщик алюминия для процессов MOVPE, ALD и CVD на глобальных научно-исследовательских и производственных предприятиях.
* Основа для производства пластмасс: ключевое сырье, обеспечивающее производство универсальных и необходимых полиолефиновых полимеров.
Предупреждение: Триметилалюминий — пирофорный и чувствительный к влаге материал, требующий специальных мер предосторожности и соблюдения правил обращения. Предоставленная информация носит описательный характер. Пользователь несет ответственность за обращение с данным материалом в соответствии со всеми применимыми правилами техники безопасности и за определение его пригодности для конкретного применения.