ההתפתחות המהירה בתחומי המידע והאופטו -אלקטרוניקה קידמה את העדכון הרציף של טכנולוגיית ליטוש מכני כימי (CMP). בנוסף לציוד וחומרים, רכישת משטחי דיוק גבוהים במיוחד תלויה יותר בתכנון ובייצור התעשייתי של חלקיקים שוחקים בעלי יעילות גבוהה, כמו גם בהכנת דלי הברזל המתאימים. ועם השיפור המתמיד של דרישות דיוק עיבוד השטח ויעילות, הדרישות לחומרי ליטוש יעילות גבוהה הולכות וגוברות גבוהות יותר. Cerium diocide נעשה שימוש נרחב בעיבוד דיוק פני השטח של מכשירים מיקרואלקטרוניים ורכיבים אופטיים מדויקים.
אבקת ליטוש תחמוצת Cerium (VK-CE01) אבקת ליטוש היא בעלי היתרונות של יכולת חיתוך חזקה, יעילות ליטוש גבוהה, דיוק ליטוש גבוה, איכות ליטוש טובה, סביבת הפעלה נקייה, זיהום נמוך, חיי שירות ארוכים וכו ', והיא נמצאת בשימוש נרחב לטיוס דיוק אופטי ו- CMP וכו'. שדה תופס מיקום חשוב במיוחד.
תכונות בסיסיות של תחמוצת cerium:
Ceria, המכונה גם תחמוצת Cerium, הוא תחמוצת של Cerium. בשלב זה, הערכיות של Cerium היא +4, והנוסחה הכימית היא CEO2. המוצר הטהור הוא אבקה כבדה לבנה או קריסטל מעוקב, והמוצר הטמא הוא צהוב בהיר או אפילו ורוד עד אבקת חום-אדמדם (מכיוון שהוא מכיל כמויות עקבות של לנטנום, Praseodymium וכו '). בטמפרטורת החדר ולחץ, Ceria הוא תחמוצת יציבה של סריום. Cerium יכול גם ליצור +3 Valence CE2O3, שאינו יציב ויוצר CEO2 יציב עם O2. תחמוצת Cerium מסיסה מעט במים, אלקלי וחומצה. הצפיפות היא 7.132 גרם/ס"מ 3, נקודת ההיתוך היא 2600 ℃ ונקודת הרתיחה היא 3500 ℃.
מנגנון ליטוש של תחמוצת Cerium
הקשיות של חלקיקי CEO2 אינה גבוהה. כפי שמוצג בטבלה למטה, קשיות תחמוצת הסריום נמוכה בהרבה מזו של תחמוצת יהלום ואלומיניום, וגם נמוכה יותר מזו של תחמוצת הזירקוניום ותחמוצת הסיליקון, השווה לתחמוצת הברזל. לכן אין זה אפשרי מבחינה טכנית לחסל חומרים מבוססי תחמוצת סיליקון, כמו זכוכית סיליקט, זכוכית קוורץ וכו ', עם סריה עם קשיות נמוכה מנקודת מבט מכנית בלבד. עם זאת, תחמוצת Cerium היא כיום אבקת הליטוש המועדפת ללטש חומרים מבוססי תחמוצת סיליקון או אפילו חומרי סיליקון ניטריד. ניתן לראות כי ליטוש תחמוצת Cerium יש גם השפעות אחרות מלבד השפעות מכניות. הקשיות של היהלום, שהוא חומר טחינה וטיטוש נפוץ, בדרך כלל יש משרות פנויות בחמצן בסריג Ceo2, המשנה את תכונותיו הפיזיקליות והכימיות ויש לו השפעה מסוימת על תכונות הליטוש. אבקות ליטוש תחמוצת Cerium נפוצה מכילות כמות מסוימת של תחמוצות אדמה נדירות אחרות. תחמוצת Praseodymium (PR6O11) יש גם מבנה סריג מעוקב מרוכז פנים, המתאים ללטש, ואילו תחמוצות אדמה נדירות אחרות של Lanthanide אין יכולת ליטוש. מבלי לשנות את מבנה הגביש של CEO2, הוא יכול ליצור עמו פיתרון מוצק בטווח מסוים. עבור אבקת ליטוש תחמוצת ננו-קריום גבוהה (VK-CE01), כך טוהר תחמוצת Cerium גבוהה יותר (VK-CE01), כך יכולת הליטוש גדולה יותר וחיי השירות הארוכים יותר, במיוחד עבור עדשות אופטיות של זכוכית קשה וקוורץ למשך זמן רב. כאשר ליטוש מחזורי, רצוי להשתמש באבקת ליטוש תחמוצת Cerium טוהרת גבוהה (VK-CE01).
יישום אבקת ליטוש תחמוצת Cerium:
אבקת ליטוש תחמוצת Cerium (VK-CE01), המשמשת בעיקר לליטוש מוצרי זכוכית, היא משמשת בעיקר בשדות הבאים:
1. משקפיים, ליטוש עדשת זכוכית;
2. עדשה אופטית, זכוכית אופטית, עדשה וכו ';
3. זכוכית מסך טלפון נייד, משטח שעון (דלת שעון) וכו ';
4. LCD עקוב אחר כל מיני מסך LCD;
5. אבני חן, יהלומים חמים (קלפים, יהלומים על ג'ינס), כדורי תאורה (נברשות יוקרה באולם הגדול);
6. מלאכות קריסטל;
7. ליטוש חלקי של ג'ייד
נגזרות ליטוש תחמוצת Cerium הנוכחיות:
פני השטח של תחמוצת Cerium מסוממים באלומיניום כדי לשפר משמעותית את ליטוש הזכוכית האופטית שלו.
מחלקת המחקר והפיתוח הטכנולוגי של טק עירוני. מוגבלת, הציע כי ההרכבה והשינוי של פני השטח של חלקיקי ליטוש הם השיטות והגישות העיקריות לשיפור היעילות והדיוק של ליטוש CMP. מכיוון שניתן לכוונן את תכונות החלקיקים על ידי הרכבה של יסודות רב-רכיבים, וניתן לשפר את יציבות הפיזור ויעילות הליטוש של slurry ליטוש על ידי שינוי פני השטח. ביצועי ההכנה והטיטוש של אבקת CEO2 המסוממת עם TIO2 יכולים לשפר את יעילות הליטוש ביותר מ- 50%, ובו בזמן, גם הפגמים לפני השטח מופחתים ב- 80%. השפעת הליטוש הסינרגיסטית של תחמוצות מורכבות של CEO2 ZRO2 ו- SiO2 2CEO2; לפיכך, טכנולוגיית ההכנה של תחמוצות מורכבות מיקרו-ננו מסוממות בעלות חשיבות רבה לפיתוח חומרי ליטוש חדשים ולדיון במנגנון ליטוש. בנוסף לכמות הסמים, המצב וההפצה של הסמים בחלקיקים המסונתזים משפיעים מאוד גם על תכונות השטח שלהם ועל ביצועי הליטוש שלהם.
ביניהם, הסינתזה של חלקיקי ליטוש עם מבנה חיפוי אטרקטיבי יותר. לפיכך, בחירת השיטות והתנאים הסינתטיים חשובה מאוד גם היא, במיוחד אלה שיטות פשוטות וחסכוניות. באמצעות סיריום קרבונט מיובש כחומר הגלם העיקרי, סונתזו חלקיקי ליטוש תחמוצת סריום מסוממים אלומיניום מסומנים על ידי שיטה מכונוכימית רטובה. תחת פעולת כוח מכני, ניתן לחלק חלקיקים גדולים של קרקבונט של Cerium Mydrated לחלקיקים עדינים, ואילו אלומיניום חנקה מגיב עם מי אמוניה ליצירת חלקיקים קולואידיים אמורפיים. החלקיקים הקולואידליים מחוברים בקלות לחלקיקי הפחמתי של Cerium, ולאחר הייבוש והסתימה, ניתן להשיג סמים מאלומיניום על פני תחמוצת Cerium. שיטה זו שימשה כדי לסנתז חלקיקי תחמוצת Cerium עם כמויות שונות של סמים מאלומיניום, וביצועי הליטוש שלהם התאפיינו. לאחר שנוספה כמות מתאימה של אלומיניום לפני השטח של חלקיקי תחמוצת הסיריום, הערך השלילי של פוטנציאל פני השטח יגדל, מה שבתורו הפך את הפער בין החלקיקים השוחקים. יש דחייה אלקטרוסטטית חזקה יותר, המקדמת את שיפור היציבות המתלה השוחקת. יחד עם זאת, גם הספיחה ההדדית בין החלקיקים השוחקים לשכבה הרכה הטעונה באופן חיובי באמצעות משיכה של קולומב, תועיל למגע ההדדי בין השוחק לשכבה הרכה על פני הזכוכית המלוטשת, ומקדמת את שיפור קצב הליטוש.