Δοκιμασία μεταλλικού ινδίου υψηλής καθαρότητας Ελάχ.99,9999%
| Μέταλλο ίνδιο |
| Σύμβολο στοιχείου=Σε |
| Ατομικός αριθμός=49 |
| ● Σημείο βρασμού = 2080℃ ● Σημείο τήξης = 156,6℃ |
Σχετικά με το Indium Metal
Η υπάρχουσα ποσότητα στον φλοιό της γης είναι 0,05 ppm και παράγεται από σουλφίδιο ψευδαργύρου. Διαχωρίζοντας από τις στάχτες στη μεταλλουργία ψευδαργύρου, λαμβάνουμε το υγρό ιόν ινδίου (3 από +) και το μετατρέπουμε σε εξαιρετικά καθαρή μονή ύλη μέσω ηλεκτρόλυσης. Εμφανίζεται ως ασημί λευκός κρύσταλλος. Είναι μαλακό και ανήκει στο τετραγωνικό κρυσταλλικό σύστημα. Είναι σταθερό στον αέρα και παράγει In2O3 μετά από θέρμανση. Σε θερμοκρασία δωματίου μπορεί να αντιδράσει με φθόριο και χλωρίδιο. Μπορεί να διαλυθεί σε οξύ αλλά όχι σε νερό ή αλκαλικό διάλυμα.
Προδιαγραφή πλινθώματος ινδίου υψηλής ποιότητας
| Αριθμός είδους, | Χημικό συστατικό | |||||||||||||||
| Σε ≥(%) | Ξένο Υλικό ≤ppm | |||||||||||||||
| Cu | Pb | Zn | Cd | Fe | Tl | Sn | As | Al | Mg | Si | S | Ag | Ni | Σύνολο | ||
| UMIG6N | 99,9999 | 1 | 1 | - | 0,5 | 1 | - | 3 | - | - | 1 | 1 | 1 | - | - | - |
| UMIG5N | 99.999 | 4 | 10 | 5 | 5 | 5 | 10 | 15 | 5 | 5 | 5 | 10 | 10 | 5 | 5 | - |
| UMIG4N | 99.993 | 5 | 10 | 15 | 15 | 7 | 10 | 15 | 5 | 5 | - | - | - | - | - | 70 |
| UMIG3N | 99,97 | 10 | 50 | 30 | 40 | 10 | 10 | 20 | 10 | 10 | - | - | - | - | - | 300 |
Συσκευασία: 500±50g/πλινθώμα, ενθυλακωμένο με σακούλα αρχειοθέτησης πολυαιθυλενίου, τοποθετημένο σε ξύλινο κουτί,
Σε τι χρησιμοποιείται η πλινθωματική ράβδος ινδίου;
Πλινθώματα ινδίου (In)- Εφαρμογές και Χρήσεις
Το ινδικό ινγότ είναι ένα ευέλικτο, μαλακό και εξαιρετικά εύπλαστο μέταλλο μετά τη μετάπτωση με εξαιρετικές ιδιότητες, όπως εξαιρετική ηλεκτρική αγωγιμότητα, ισχυρή πρόσφυση σε διάφορα υποστρώματα και χαμηλό σημείο τήξης. Αυτά τα χαρακτηριστικά το καθιστούν κρίσιμο υλικό στη σύγχρονη τεχνολογία, από τα καθημερινά ηλεκτρονικά είδη ευρείας κατανάλωσης έως τα προηγμένα συστήματα ενέργειας και έρευνας. Το υψηλής καθαρότητας ινδικό ινγότ μας χρησιμεύει ως η βασική πρώτη ύλη για ένα ευρύ φάσμα εφαρμογών αιχμής.
Κύριες εφαρμογές και βιομηχανίες:
1. Ηλεκτρονικά & Οθόνες (Κύρια Εφαρμογή)
Η μεγαλύτερη εφαρμογή του ινδίου είναι με τη μορφή οξειδίου του ινδίου-κασσιτέρου (ITO), ενός διαφανούς αγώγιμου οξειδίου.
* Διαφανείς Αγώγιμες Μεμβράνες: Το ίνδιο, που ψεκάζεται από στόχους ITO, είναι απαραίτητο για τη δημιουργία των διαφανών αγώγιμων στρωμάτων σε:
* Επίπεδες οθόνες: LCD, OLED και οθόνες αφής για smartphone, tablet, τηλεοράσεις και οθόνες.
* Φωτοβολταϊκά: Ηλιακά στοιχεία λεπτής μεμβράνης (όπως τα CIGS), όπου χρησιμεύουν ως διαφανές ηλεκτρόδιο που επιτρέπει στο φως να φτάσει στο ενεργό στρώμα.
* Ενεργειακά αποδοτικά παράθυρα: Χρησιμοποιούνται σε έξυπνα παράθυρα που μπορούν να ελέγχουν δυναμικά τη μετάδοση θερμότητας και φωτός.
2. Συγκόλληση και κράμα
Το χαμηλό σημείο τήξης του ινδίου και η ικανότητά του να βρέχει πολλές επιφάνειες το καθιστούν ανεκτίμητο σε εφαρμογές σύνδεσης και επικάλυψης.
* Εξειδικευμένες κολλήσεις: Οι κολλήσεις με βάση το ίνδιο δημιουργούν αξιόπιστους δεσμούς χαμηλής θερμοκρασίας σε θερμικά ευαίσθητα εξαρτήματα, κρίσιμους για:
* Συναρμολόγηση ηλεκτρονικών: Ειδικά σε διαδικασίες σταδιακής συγκόλλησης και για τη συσκευασία ευαίσθητων συσκευών.
* Θερμική Διαχείριση: Σύνδεση ψύκτρων σε ευαίσθητα τσιπ σε υπολογιστές υψηλής απόδοσης.
* Προστατευτικές επιστρώσεις: Χρησιμοποιούνται ως επίστρωση λεπτής μεμβράνης σε ρουλεμάν και άλλες κινούμενες επιφάνειες για την παροχή ανώτερης λίπανσης, τη μείωση της τριβής και την ενίσχυση της αντοχής στη διάβρωση.
* Οδοντιατρικά κράματα: Κράματα με άλλα μέταλλα για τη δημιουργία ισχυρών, ανθεκτικών και βιοσυμβατών οδοντιατρικών αμαλγαμάτων και αποκαταστάσεων.
3. Ημιαγωγοί & Προηγμένη Έρευνα
Οι ιδιότητες εξαιρετικά υψηλής καθαρότητας του ινδίου αξιοποιούνται στους πιο προηγμένους τεχνολογικούς τομείς.
* Σύνθετοι Ημιαγωγοί: Ως βασικό στοιχείο Ομάδας III, χρησιμοποιείται στην Επιταξία Μεταλλοργανικής Φάσης Ατμών (MOVPE) για την ανάπτυξη ημιαγωγών υψηλής απόδοσης όπως το Φωσφορούχο Ινδίου (InP) και το Αρσενίδιο Ινδίου-Γαλλίου (InGaAs). Αυτά είναι κρίσιμα για:
* Τρανζίστορ υψηλής συχνότητας
* Οπτοηλεκτρονική: Λέιζερ και φωτοανιχνευτές για επικοινωνίες οπτικών ινών.
* Έρευνα & Ανάπτυξη: Λειτουργεί ως πρόδρομο υλικό σε ακαδημαϊκά και βιομηχανικά εργαστήρια για την ανάπτυξη νέων ημιαγωγικών συσκευών και νανοϋλικών.
4. Πυρηνική Τεχνολογία
* Ράβδοι ελέγχου: Σε κράμα αργύρου και καδμίου (κράμα Ag-In-Cd), το ίνδιο είναι ένα βασικό συστατικό στις ράβδους ελέγχου πυρηνικών αντιδραστήρων, όπου η υψηλή διατομή σύλληψης νετρονίων βοηθά στην ακριβή ρύθμιση της αντίδρασης πυρηνικής σχάσης.
---
Βασικά Χαρακτηριστικά & Πλεονεκτήματα:
* Υψηλή καθαρότητα: Εξασφαλίζει βέλτιστη απόδοση σε κρίσιμες εφαρμογές όπως η κατασκευή ημιαγωγών και ο ψεκασμός ITO.
* Εξαιρετική ολκιμότητα: Μπορεί εύκολα να τυλιχτεί, να εξωθηθεί και να διαμορφωθεί σε διάφορα σχήματα, όπως σύρμα και αλουμινόχαρτο.
* Ανώτερη διαβρεξιμότητα και πρόσφυση: Σχηματίζει ισχυρούς δεσμούς με γυαλί, μέταλλα και κεραμικά, καθιστώντας το ιδανικό για συγκόλληση και επικάλυψη.
* Κρίσιμος Ενεργοποιητής: Ένα ζωτικό υλικό για πολλαπλές τεχνολογίες υψηλής ανάπτυξης στους τομείς των οθονών, της ενέργειας και των τηλεπικοινωνιών.
Αποποίηση ευθύνης: Οι πληροφορίες που παρέχονται προορίζονται για περιγραφικούς σκοπούς. Οι χρήστες είναι υπεύθυνοι για την επαλήθευση της καταλληλότητας του ινδίου για την συγκεκριμένη εφαρμογή τους και για τη συμμόρφωση με όλους τους σχετικούς κανονισμούς υγείας, ασφάλειας και περιβάλλοντος κατά τον χειρισμό και τη χρήση του.
