ToLiImium ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਸਮਗਰੀ, ਖ਼ਾਸਕਰ ਉੱਚ ਪੱਧਰੀ ਨੈਨੋ-ਪੱਧਰਟੋਲੂਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ, ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ ਵਿਆਪਕ ਧਿਆਨ ਖਿੱਚਿਆ ਹੈ. ਤਾਂ ਨੈਨੋ ਟਾਈਲੂਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਕੀ ਹਨ ਅਤੇ ਇਹ ਤਿਆਰੀ ਦਾ ਕੀ ਹੈ? ਦੀ ਆਰ ਐਂਡ ਡੀ ਟੀਮ<br> ਸ਼ਹਿਰੀ ਕੰਪਨੀ, ਲਿਮਟਿਡਉਦਯੋਗ ਦੇ ਹਵਾਲੇ ਲਈ ਇਸ ਲੇਖ ਨੂੰ ਸੰਖੇਪ ਵਿੱਚ ਦੱਸਿਆ ਹੈ.
ਸਮਕਾਲੀ ਸਮੱਗਰੀ ਵਿਗਿਆਨ ਵਿਗਿਆਨ, ਡਿਵਾਈਸਿ ii ਰਵਾਨਾ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਦੇ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ, ਇੱਕ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਆਕਾਸਟੋ-ਆਪਟੀਟਿਕ ਸਮੱਗਰੀ, ਚੰਗੀ ਰਮਨ ਸਕੈਟਰਿੰਗ ਟ੍ਰਾਈਜੇਸ਼ਨ, ਚੰਗੀ ਰਮਨ ਦੇ ਆਕੌਸਟ੍ਰਿਕ ਪ੍ਰਤੱਖ, ਆਕੌਸਟੋ-ਆਪਟਿਕ ਡਿਫਾਈਲੈਕਟਰ, ਫਿਲਟਰ, ਆਪਟੀਕਲ ਰੂਪਾਂਤਰਣ ...
ਨੈਨੋਮੈਟਰੀਅਲਸ ਵਿੱਚ ਵੱਡੇ ਖਾਸ ਸਤਹ ਖੇਤਰ ਅਤੇ ਛੋਟੇ ਕਣ ਦੇ ਆਕਾਰ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ, ਜੋ ਇਸ ਨੂੰ ਸਤਹ ਪ੍ਰਭਾਵਾਂ, ਕੁਆਂਟਮ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵਾਂ ਅਤੇ ਅਕਾਰ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਪੈਦਾ ਕਰ ਸਕਦੀਆਂ ਹਨ. ਇਸ ਲਈ, Tellumerium Dioxide 'ਤੇ ਡੂੰਘਾਈ ਨਾਲ ਖੋਜ ਨੈਨੋਮੈਟਰੀਅਲ ਬਹੁਤ ਜ਼ਰੂਰੀ ਹੈ.
ਨੈਨੋਮੈਟਰੀਅਲਸ ਵਿੱਚ ਵੱਡੇ ਖਾਸ ਸਤਹ ਖੇਤਰ ਅਤੇ ਛੋਟੇ ਕਣ ਦੇ ਆਕਾਰ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ, ਜੋ ਇਸ ਨੂੰ ਸਤਹ ਪ੍ਰਭਾਵਾਂ, ਕੁਆਂਟਮ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵਾਂ ਅਤੇ ਅਕਾਰ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਪੈਦਾ ਕਰ ਸਕਦੀਆਂ ਹਨ. ਇਸ ਲਈ, Tellumerium Dioxide 'ਤੇ ਡੂੰਘਾਈ ਨਾਲ ਖੋਜ ਨੈਨੋਮੈਟਰੀਅਲ ਬਹੁਤ ਜ਼ਰੂਰੀ ਹੈ. ਇਸ ਸਮੇਂ, ਤਿਆਰੀ ਦੇ methods ੰਗਟਾਈਲਿ ii ਰੀਿਅਮ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡਨੈਨੋਮੈਟਰੀਅਲ ਮੁੱਖ ਤੌਰ ਤੇ ਥਰਮਲ ਭਾਫਸ ਵਿਧੀ ਅਤੇ ਸੋਲ ਵਿਧੀ ਵਿੱਚ ਵੰਡਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ. ਥਰਮਲ ਭਾਫਸ ਵਿਧੀ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਦੀਆਂ ਸਥਿਤੀਆਂ ਦੇ ਤਹਿਤ ਐਲੀਪਾਰਮਿੰਗ ਐਲੀਮੋਰਲ ਟੈਲਿ ire ਰੇਟੀਟਰੀਅਮ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਸਿੱਧੀ ਪਾ powder ਡਰ ਹੈ. ਨੁਕਸਾਨ ਇਹ ਹੈ ਕਿ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਲਈ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਦੀ ਜ਼ਰੂਰਤ ਹੈ, ਉਪਕਰਣ ਮਹਿੰਗੇ ਹੁੰਦੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਜ਼ਹਿਰੀਲੇ ਭਾਫ਼ ਤਿਆਰ ਹੁੰਦੇ ਹਨ. ਬਹੁਤ ਸਾਰੇ ਵੈਲਿ ii ਰੇਡੀਓ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਨੈਨੋਮੈਟਰੀਅਲ ਨੂੰ ਭਾਫ ਦੁਆਰਾ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ. ਇਸ ਦੇ ਅਸਲ ਕਣਾਂ ਨੂੰ ਗੋਲਾਕਾਰ ਟੈਲਿ ire ਰਵਾਨ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਨੈਨੋਕਸਾਰਟ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ ਇਕ ਕਣ ਦੇ ਆਕਾਰ ਦੀ ਵੰਡ ਦੇ ਨਾਲ ਇਕ ਹਵਾ ਮਾਈਕ੍ਰੋਵੇਵ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ ਭਾਫ ਖਾਧਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ. ਪਾਰਕ ਐਟ ਅਲ. ਇੱਕ ਅਣ-ਸੂਚੀਬੱਧ ਕੱਟੜ ਪਾ powder ਬ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਅਣ-ਸੂਚੀਬੱਧ ਕਵਾਰਜ਼ ਟਿ ume ਬ ਵਿੱਚ 500 ਡਿਗਰੀ ਸੈਲਸੀਅਸ ਵਿੱਚ ਐਸਆਈਓ 2 ਨੈਨੋਰੋਡਜ਼ ਦੇ ਨਾਲ, ਤਿਆਰ ਕੀਤੀ ਗਈ ਏਜੀ ਕਾਰਜਸ਼ੀਲ ਟਾਈਲਿ ire ਰੇਡ ਨੈਨੋਰੋਡ ਨੂੰ ਐਥੇਨ ਗੈਸ ਦੀ ਇਕਾਗਰਤਾ ਦਾ ਪਤਾ ਲਗਾਉਣ ਲਈ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ ਗਿਆ. ਸੋਲ ਵਿਧੀ ਅਸਾਨੀ ਨਾਲ ਹਾਈਡ੍ਰੋਲਾਈਜ਼ਡ ਕਰਨ ਲਈ ਟੈਲਿ ild ਰੀਆਰੀਅਮ ਪੂਰਵਜ (ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਟੌਲੁਰਾਈਟ ਅਤੇ ਟੋਲੂਰੀਅਮ ਆਈਸੋਪੌਕਸਾਈਡ) ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੀ ਹੈ. ਤਰਲ ਪੜਾਅ ਦੇ ਅਧੀਨ ਐਸਿਡ ਕੈਟਾਲਸ ਨੂੰ ਸ਼ਾਮਲ ਕਰਨ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਇੱਕ ਸਥਿਰ ਪਾਰਦਰਸ਼ੀ ਸਿਆਹੀਣਾ ਸਿਸਟਮ ਬਣਾਇਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ. ਫਿਲਟ੍ਰੇਸ਼ਨ ਅਤੇ ਸੁਕਾਉਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ, ਵਲਿਉਰੀਅਮ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਨੈਨੋ-ਠੋਸ ਪਾ powder ਡਰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ. Method ੰਗ ਨੂੰ ਸੰਚਾਲਿਤ ਕਰਨਾ ਸੌਖਾ ਹੈ, ਵਾਤਾਵਰਣ ਪੱਖੋਂ ਅਨੁਕੂਲ ਹੈ, ਅਤੇ ਪ੍ਰਤੀਕਰਮ ਨੂੰ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਦੀ ਜ਼ਰੂਰਤ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦੀ. 200-300nm ਤੋਂ ਲੈ ਕੇ ਕਣ ਦੇ ਆਕਾਰਾਂ ਵਿਚ ਲੈਟਰਿਕ ਡਾਈਆਕਸਡ ਨੈਨੋਕਸਾਰਟ ਜਾਂ ਕੈਟ੍ਰਿਜਿਅਮ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਨੈਨੋਕਸਾਰਟ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਉਤਪ੍ਰੇਰਕ ਐਸਿਡ ਅਤੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਲਾਈਡ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਨੈਨਸਟੋਸਟਿਕਸ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰੋ.
