Déi séier Entwécklung an de Beräicher vun Informatioun an Optoelektronik huet de kontinuéierleche Update vun der chemescher mechanescher Poliertechnologie (CMP) gefördert. Zousätzlech zu Ausrüstung a Materialien ass d'Acquisitioun vun ultra-héichpräzis Flächen méi ofhängeg vum Design an der industrieller Produktioun vun héicheffizienten Schleifpartikelen, wéi och d'Virbereedung vun der entspriechender Polierschlamm. A mat der kontinuéierlecher Verbesserung vun der Uewerflächveraarbechtungsgenauegkeet an der Effizienzfuerderunge ginn d'Ufuerderunge fir héicheffizient Poliermaterialien och ëmmer méi héich. Ceriumdioxid gouf wäit an der Uewerfläch Präzisiounsmachinatioun vu mikroelektroneschen Apparater a Präzisiounsoptesch Komponenten benotzt.
Ceriumoxid Polierpulver (VK-Ce01) Polierpulver huet d'Virdeeler vu staarker Schneidfäegkeet, héijer Poliereffizienz, héich Poliergenauegkeet, gutt Polierqualitéit, proppert Betribsëmfeld, geréng Verschmotzung, laang Liewensdauer, asw., a gëtt wäit benotzt an optesch Präzisioun poléieren an CMP, etc.. Terrain besetzt eng extrem wichteg Positioun.
Basis Eegeschafte vum Ceriumoxid:
Ceria, och bekannt als Ceriumoxid, ass en Oxid vu Cerium. Zu dëser Zäit ass d'Valenz vum Cerium +4, an déi chemesch Formel ass CeO2. De pure Produkt ass wäiss schwéier Pudder oder Kubikkristall, an dat onreint Produkt ass hellgiel oder souguer rosa bis routbrong Pudder (well et Spuermengen vu Lantan, Praseodym, etc.) enthält. Bei Raumtemperatur an Drock ass Ceria e stabile Oxid vu Cerium. Cerium kann och +3 Valenz Ce2O3 bilden, wat onbestänneg ass a stabil CeO2 mat O2 bilden. Ceriumoxid ass liicht löslech a Waasser, Alkali a Säure. D'Dicht ass 7.132 g / cm3, de Schmelzpunkt ass 2600 ℃, an de Kachpunkt ass 3500 ℃.
Poliermechanismus vum Ceriumoxid
D'Härheet vu CeO2 Partikelen ass net héich. Wéi an der Tabell hei ënnendrënner gewisen, ass d'Härheet vum Ceriumoxid vill méi niddereg wéi déi vum Diamant an Aluminiumoxid, an och manner wéi déi vum Zirkoniumoxid a Siliziumoxid, wat gläichwäerteg mam Ferrioxid ass. Et ass also net technesch machbar fir Siliziumoxid-baséiert Materialien, wéi Silikatglas, Quarzglas, asw., mat Ceria mat enger gerénger Härheet nëmmen aus enger mechanescher Siicht ze depoléieren. Wéi och ëmmer, Ceriumoxid ass de Moment de bevorzugte Polierpulver fir Siliziumoxid-baséiert Materialien oder souguer Siliziumnitridmaterialien ze poléieren. Et kann gesi ginn datt Ceriumoxidpoléieren och aner Effekter nieft mechanesch Effekter huet. D'Härheet vum Diamant, wat e allgemeng benotzt Schleif- a Poliermaterial ass, huet normalerweis Sauerstoffvakanzen am CeO2 Gitter, wat seng physesch a chemesch Eegeschaften ännert an e gewëssen Impakt op d'Poliereigenschaften huet. Allgemeng benotzt Ceriumoxid Polierpulver enthält eng gewësse Quantitéit vun anere rare Äerdoxiden. Praseodymiumoxid (Pr6O11) huet och eng Gesiichtszentréiert kubesch Gitterstruktur, déi gëeegent ass fir ze poléieren, während aner lanthanid selten Äerdoxide keng poléierend Fäegkeet hunn. Ouni d'Kristallstruktur vum CeO2 z'änneren, kann et eng zolidd Léisung mat him an engem bestëmmte Beräich bilden. Fir héich Puritéit Nano-Ceriumoxid Polierpulver (VK-Ce01), wat méi héich d'Rengheet vum Ceriumoxid (VK-Ce01) ass, wat méi grouss d'Polierfäegkeet an déi méi laang Liewensdauer, besonnesch fir hart Glas a Quarz optesch Lënse fir eng laang Zait. Wann zyklesch poléieren, ass et unzeroden héich Puritéit Ceriumoxid Polierpulver (VK-Ce01) ze benotzen.
Uwendung vum Ceriumoxid Polierpulver:
Ceriumoxid Polierpulver (VK-Ce01), haaptsächlech fir Polieren Glasprodukter benotzt, gëtt et haaptsächlech an de folgende Beräicher benotzt:
1. Brëller, Glas Lens poléieren;
2. Optesch Lens, optesch Glas, Lens, etc .;
3. Handy Écran Glas, Auer Uewerfläch (Auer Dier), etc .;
4. LCD Monitor all Zorte vu LCD Écran;
5. Rhinestones, waarm Diamanten (Kaarten, Diamanten op Jeans), Beliichtung Bäll (Luxus Lüster an der grousser Hal);
6. Kristallhandwierker;
7. Deelweis poléieren vun Jade
Déi aktuell Ceriumoxid poléierend Derivate:
D'Uewerfläch vum Ceriumoxid gëtt mat Aluminium dotéiert fir seng Polierung vum opteschen Glas wesentlech ze verbesseren.
D'Technologie Fuerschung an Entwécklung Departement vun UrbanMines Tech. Limitéiert, proposéiert datt d'Kompositioun an d'Uewerflächemodifikatioun vu Polierpartikelen d'Haaptmethoden an Approche sinn fir d'Effizienz an d'Genauegkeet vum CMP Polieren ze verbesseren. Well d'Partikeleigenschaften duerch d'Verbindung vu Multi-Komponenten Elementer ofgestëmmt kënne ginn, an d'Dispersiounsstabilitéit an d'Poliereffizienz vun der Polierschlamm kënne verbessert ginn duerch Uewerflächemodifikatioun. D'Virbereedung a Polierleistung vum CeO2-Pulver, deen mat TiO2 dotéiert ass, kann d'Poliereffizienz ëm méi wéi 50% verbesseren, a gläichzäiteg sinn d'Uewerflächenfehler och ëm 80% reduzéiert. De synergistesche Poliereffekt vu CeO2 ZrO2 a SiO2 2CeO2 Kompositoxiden; dofir, d'Virbereedung Technologie vun dotéiert Ceria Mikro-Nano Komposit Oxiden ass vu grousser Bedeitung fir d'Entwécklung vun neie poléieren Material an d'Diskussioun vun poléieren Mechanismus. Zousätzlech zum Dopingbetrag beaflosst den Zoustand an d'Verdeelung vum Dotant an de synthetiséierte Partikelen och hir Uewerflächeegenschaften a Polierleistung staark.
Ënner hinnen ass d'Synthese vu poléierende Partikelen mat der Verkleedungsstruktur méi attraktiv. Dofir ass d'Auswiel vu syntheteschen Methoden a Bedéngungen och ganz wichteg, besonnesch déi Methoden déi einfach a kosteneffektiv sinn. Mat hydratiséierte Ceriumkarbonat als Haaptrohmaterial, goufen aluminium-dotéiert Ceriumoxid-Polierpartikelen duerch naass Festphase mechanochemesch Method synthetiséiert. Ënnert der Aktioun vun der mechanescher Kraaft kënne grouss Partikele vu hydratiséierte Ceriumkarbonat a feine Partikelen gespléckt ginn, während Aluminiumnitrat mat Ammoniakwasser reagéiert fir amorph kolloidal Partikel ze bilden. Déi kolloidal Partikele si ganz einfach un d'Ceriumkarbonatpartikelen befestegt, an no der Trocknung an der Kalzinatioun kann d'Aluminiumdoping op der Uewerfläch vum Ceriumoxid erreecht ginn. Dës Method gouf benotzt fir Ceriumoxidpartikelen mat verschiddene Quantitéiten un Aluminiumdoping ze synthetiséieren, an hir Polierleistung war charakteriséiert. Nodeems eng adequat Betrag vun Aluminium op d'Uewerfläch vun de Ceriumoxidpartikelen bäigefüügt gouf, géif den negativen Wäert vum Uewerflächepotenzial eropgoen, wat am Tour de Spalt tëscht de Schleifpartikelen gemaach huet. Et gëtt méi staark elektrostatesch Oflehnung, wat d'Verbesserung vun der abrasiver Suspensionstabilitéit fördert. Zur selwechter Zäit gëtt och déi géigesäiteg Adsorptioun tëscht de Schleifpartikelen an der positiv geluedener mëller Schicht duerch d'Coulomb Attraktioun verstäerkt, wat fir de géigesäitege Kontakt tëscht dem Schleifstoff an der mëller Schicht op der Uewerfläch vum poléierte Glas positiv ass a fördert. d'Verbesserung vun der poléieren Taux.