ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ವಸ್ತುಗಳು, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆ ನ್ಯಾನೊ-ಮಟ್ಟಟೆಥುರಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್, ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕ ಗಮನ ಸೆಳೆದಿದ್ದಾರೆ. ಹಾಗಾದರೆ ನ್ಯಾನೊ ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಯಾವುವು, ಮತ್ತು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ತಯಾರಿ ವಿಧಾನ ಯಾವುದು? ಆರ್ & ಡಿ ತಂಡಅರ್ಬನ್ಮಿನೆಸ್ ಟೆಕ್ ಕಂ, ಲಿಮಿಟೆಡ್.ಉದ್ಯಮದ ಉಲ್ಲೇಖಕ್ಕಾಗಿ ಈ ಲೇಖನವನ್ನು ಸಂಕ್ಷಿಪ್ತಗೊಳಿಸಿದೆ.
ಸಮಕಾಲೀನ ವಸ್ತು ವಿಜ್ಞಾನ ಕ್ಷೇತ್ರದಲ್ಲಿ, ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್, ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾದ ಅಕೌಸ್ಟೋ-ಆಪ್ಟಿಕ್ ವಸ್ತುವಾಗಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಸೂಚ್ಯಂಕ, ದೊಡ್ಡ ರಾಮನ್ ಸ್ಕ್ಯಾಟರಿಂಗ್ ಪರಿವರ್ತನೆ, ಉತ್ತಮ ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಆಪ್ಟಿಕ್ಸ್, ಉತ್ತಮ ವಿದ್ಯುತ್ ವಾಹಕತೆ, ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಅಕೌಸ್ಟೊಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು, ಹೆಚ್ಚು ಆಂತರಿಕ ಪ್ರಸರಣವನ್ನು ನೇರಳಾತೀತ ಮತ್ತು ಗೋಚರಿಸುವ ಬೆಳಕಿನ ಮೇಲೆ ಬಳಸುವುದು. ಫಿಲ್ಟರ್‌ಗಳು, ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಪರಿವರ್ತನೆ…
ನ್ಯಾನೊವಸ್ತುಗಳು ದೊಡ್ಡ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಮೇಲ್ಮೈ ವಿಸ್ತೀರ್ಣ ಮತ್ತು ಸಣ್ಣ ಕಣಗಳ ಗಾತ್ರದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ, ಇದು ಮೇಲ್ಮೈ ಪರಿಣಾಮಗಳು, ಕ್ವಾಂಟಮ್ ಪರಿಣಾಮಗಳು ಮತ್ತು ಗಾತ್ರದ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುವಂತೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊವಸ್ತುಗಳ ಬಗ್ಗೆ ಆಳವಾದ ಸಂಶೋಧನೆಗಳು ಬಹಳ ಅವಶ್ಯಕ.
ನ್ಯಾನೊವಸ್ತುಗಳು ದೊಡ್ಡ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಮೇಲ್ಮೈ ವಿಸ್ತೀರ್ಣ ಮತ್ತು ಸಣ್ಣ ಕಣಗಳ ಗಾತ್ರದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ, ಇದು ಮೇಲ್ಮೈ ಪರಿಣಾಮಗಳು, ಕ್ವಾಂಟಮ್ ಪರಿಣಾಮಗಳು ಮತ್ತು ಗಾತ್ರದ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುವಂತೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊವಸ್ತುಗಳ ಬಗ್ಗೆ ಆಳವಾದ ಸಂಶೋಧನೆಗಳು ಬಹಳ ಅವಶ್ಯಕ. ಪ್ರಸ್ತುತ, ತಯಾರಿಸುವ ವಿಧಾನಗಳುಟೆಥುರಿಯಂ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ನ್ಯಾನೊವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಉಷ್ಣ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ವಿಧಾನ ಮತ್ತು ಎಸ್‌ಒಎಲ್ ವಿಧಾನ ಎಂದು ವಿಂಗಡಿಸಲಾಗಿದೆ. ಹೊಸ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಪಡೆಯಲು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಧಾತುರೂಪದ ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಘನ ಪುಡಿಯನ್ನು ನೇರವಾಗಿ ಆವಿಯಾಗುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಉಷ್ಣ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ. ಅನಾನುಕೂಲವೆಂದರೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ, ಉಪಕರಣಗಳು ದುಬಾರಿಯಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ವಿಷಕಾರಿ ಆವಿಗಳು ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುತ್ತವೆ. ಅನೇಕ ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯಿಂದ ತಯಾರಿಸಲಾಗಿದೆ. 100-25nm ನ ಕಣದ ಗಾತ್ರದ ವಿತರಣೆಯೊಂದಿಗೆ ಗೋಳಾಕಾರದ ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊಪರ್ಟಿಕಲ್ಸ್ ತಯಾರಿಸಲು ಏರ್ ಮೈಕ್ರೊವೇವ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಜ್ವಾಲೆಯನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಟಿಇ ಧಾತುರೂಪದ ಕಣಗಳು ಆವಿಯಾಗುತ್ತವೆ. ಪಾರ್ಕ್ ಮತ್ತು ಇತರರು. 500 ° C ನಲ್ಲಿ ಸೀಲ್ ಮಾಡದ ಸ್ಫಟಿಕ ಟ್ಯೂಬ್‌ನಲ್ಲಿ ಆವಿಯಾದ ಟೆ ಎಲಿಮೆಂಟಲ್ ಪೌಡರ್, ಸಿಯೋ 2 ನ್ಯಾನೊರೊಡ್‌ಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಆಗ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಮಾರ್ಪಡಿಸಿ, 50-100nm ವ್ಯಾಸದೊಂದಿಗೆ ಆಗ್ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊರೊಡ್‌ಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಿ, ಮತ್ತು ಎಥಾನೊಲ್ ಅನಿಲದ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಕಂಡುಹಿಡಿಯಲು ಅವುಗಳನ್ನು ಬಳಸಿದರು. ಎಸ್‌ಒಎಲ್ ವಿಧಾನವು ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಪೂರ್ವಗಾಮಿಗಳ ಆಸ್ತಿಯನ್ನು (ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಟೆಲ್ಲುರೈಟ್ ಮತ್ತು ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಐಸೊಪ್ರೊಪಾಕ್ಸೈಡ್) ಸುಲಭವಾಗಿ ಜಲವಿಚ್ zed ೇದಿಸಲು ಬಳಸುತ್ತದೆ. ದ್ರವ ಹಂತದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಆಮ್ಲ ವೇಗವರ್ಧಕವನ್ನು ಸೇರಿಸಿದ ನಂತರ ಸ್ಥಿರ ಪಾರದರ್ಶಕ ಸೋಲ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ರಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಶೋಧನೆ ಮತ್ತು ಒಣಗಿದ ನಂತರ, ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊ-ಘನ ಪುಡಿಯನ್ನು ಪಡೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ. ವಿಧಾನವು ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸಲು ಸರಳವಾಗಿದೆ, ಪರಿಸರ ಸ್ನೇಹಿ, ಮತ್ತು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಅಗತ್ಯವಿಲ್ಲ. ಟೆಲ್ಯುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊ ಪಾರ್ಟಿಕಲ್ ಸೋಲ್ ಅನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು Na2TeO3 ಅನ್ನು ವೇಗವರ್ಧಿಸಲು ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೊಲೈಸ್ ಮಾಡಲು ಅಸಿಟಿಕ್ ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ಗ್ಯಾಲಿಕ್ ಆಮ್ಲದ ದುರ್ಬಲ ಆಮ್ಲ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಳ್ಳಿ ಮತ್ತು ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊಪರ್ಟಿಕಲ್ಸ್ ಅನ್ನು ವಿವಿಧ ಸ್ಫಟಿಕ ರೂಪಗಳಲ್ಲಿ ಪಡೆದುಕೊಳ್ಳಿ, ಕಣಗಳ ಗಾತ್ರಗಳು 200-300nm ನಿಂದ.
