ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಮೆಟೀರಿಯಲ್ ಅನಾಲಿಸಿಸ್, ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಟಾರ್ಗೆಟ್ ತಯಾರಿ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ, ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಗುರಿ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳು
ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ (ಎನ್ಬಿ 2 ಒ 5)ಗಮನಾರ್ಹವಾದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಉನ್ನತ-ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ವಸ್ತುವಾಗಿದ್ದು, ಬಹು ಹೈಟೆಕ್ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಪ್ರಮುಖ ಪಾತ್ರ ವಹಿಸುತ್ತದೆ. ಕಂ., ಲಿಮಿಟೆಡ್ ಈ ಲೇಖನವನ್ನು ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ವಸ್ತುಗಳ ಮೂಲ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಆಳವಾಗಿ ವಿಶ್ಲೇಷಿಸಲು ಅವುಗಳ ರಾಸಾಯನಿಕ ಮತ್ತು ಭೌತಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ವಸ್ತುಗಳ ಹೋಲಿಕೆಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಂತೆ, ವೈಜ್ಞಾನಿಕ ಮತ್ತು ತಾಂತ್ರಿಕ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಲ್ಲಿ ಅವುಗಳ ವಿಶಿಷ್ಟ ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚುವರಿಯಾಗಿ, ಇದು ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಗುರಿಗಳ ತಯಾರಿಕೆಯ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ವಿಧಾನಗಳನ್ನು ಚರ್ಚಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅವುಗಳ ಪ್ರಮುಖ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳನ್ನು ಅನ್ವೇಷಿಸುತ್ತದೆ.
ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು
- ರಾಸಾಯನಿಕ ಸ್ಥಿರತೆ: ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಕೋಣೆಯ ಉಷ್ಣಾಂಶದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ರಾಸಾಯನಿಕ ವಸ್ತುಗಳ ಕಡೆಗೆ ಅಸಾಧಾರಣ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆಮ್ಲಗಳು ಮತ್ತು ಕ್ಷಾರಗಳೊಂದಿಗೆ ಸೀಮಿತ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕತೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ಗುಣಲಕ್ಷಣವು ಅದರ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಕಠಿಣ ರಾಸಾಯನಿಕ ಪರಿಸರದಲ್ಲಿ ಬದಲಾಗದೆ ಕಾಪಾಡಿಕೊಳ್ಳಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ, ಇದು ರಾಸಾಯನಿಕ ತುಕ್ಕು ಒಳಗೊಂಡ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗೆ ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ. ಪರಿಸರ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳು.
.
ಭೌತಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು:
- ಹೆಚ್ಚಿನ ಕರಗುವ ಬಿಂದು: ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಕರಗುವ ಬಿಂದುವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ (ಅಂದಾಜು 1512°ಸಿ), ಹೆಚ್ಚಿನ ಕೈಗಾರಿಕಾ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಇದು ಘನ ರೂಪದಲ್ಲಿ ಉಳಿಯಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.
- ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು: ಇದು ಹೆಚ್ಚಿನ ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಸೂಚ್ಯಂಕ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಪ್ರಸರಣ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಫಿಲ್ಟರ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಲೆನ್ಸ್ ಲೇಪನಗಳಂತಹ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಘಟಕಗಳ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಆದ್ಯತೆಯ ವಸ್ತುವನ್ನಾಗಿ ಮಾಡುತ್ತದೆ.
- ವಿದ್ಯುತ್ ನಿರೋಧನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು: ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಅಸಾಧಾರಣವಾದ ವಿದ್ಯುತ್ ನಿರೋಧಕ ವಸ್ತುವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತದೆ, ಅದರ ಹೆಚ್ಚಿನ ಡೈಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ಸ್ಥಿರವು ಮೈಕ್ರೋಎಲೆಕ್ಟ್ರೊನಿಕ್ಸ್ ಮತ್ತು ಅರೆವಾಹಕ ಕೈಗಾರಿಕೆಗಳಲ್ಲಿ ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಮಹತ್ವದ್ದಾಗಿದೆ.
ಇತರ ವಸ್ತುಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೋಲಿಕೆ
ಇತರ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಸ್ಥಿರತೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಮತ್ತು ವಿದ್ಯುತ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ವಿಷಯದಲ್ಲಿ ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಉತ್ತಮ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತದೆ. ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಸತು ಆಕ್ಸೈಡ್ (ZnO) ಮತ್ತು ಟೈಟಾನಿಯಂ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ (TIO2) ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಸೂಚ್ಯಂಕ ಮತ್ತು ಉತ್ತಮ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಕಲ್ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ. ಸ್ಪರ್ಧಾತ್ಮಕ ಪ್ರಯೋಜನ: ಇದೇ ರೀತಿಯ ವಸ್ತುಗಳ ಪೈಕಿ, ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಅದರ ವಿಶಿಷ್ಟ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಸಂಯೋಜನೆಗೆ ಎದ್ದು ಕಾಣುತ್ತದೆ, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನ ಪ್ರತಿರೋಧ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಸುಧಾರಿತ ಆಪ್ಟೊಎಲೆಟ್ರೊನಿಕ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ.
ಸಿದ್ಧತೆTತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಮತ್ತುMನ ಎಥೋಡ್Nಅಯೋಬಿಯಮ್OಇಳಿಜಾರುTಅರ್ಗೆMಸಮರೋಗದ.
PಅಂಬಿಗMಹಿತಾಸಕ್ತಿ
- ತತ್ವ ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ: ಪುಡಿ ಲೋಹಶಾಸ್ತ್ರವು ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಪುಡಿಯನ್ನು ಭೌತಿಕವಾಗಿ ಒತ್ತಿದರೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಸಿಂಟರ್ ಮಾಡಿ ಘನ ಗುರಿಯನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ವಿಧಾನದ ಪ್ರಯೋಜನವೆಂದರೆ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುವುದು ಸರಳ, ಕಡಿಮೆ ವೆಚ್ಚ ಮತ್ತು ದೊಡ್ಡ-ಪ್ರಮಾಣದ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.
- ಪ್ರಯೋಜನಗಳು: ಹೆಚ್ಚಿನ ವೆಚ್ಚ-ಪರಿಣಾಮಕಾರಿತ್ವವು ದೊಡ್ಡ ಗಾತ್ರದ ಗುರಿಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಇದು ಕೈಗಾರಿಕಾ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.
- ಮಿತಿಗಳು: ಸಿದ್ಧಪಡಿಸಿದ ಉತ್ಪನ್ನದ ಸಾಂದ್ರತೆ ಮತ್ತು ಏಕರೂಪತೆಯು ಇತರ ವಿಧಾನಗಳಿಗಿಂತ ಸ್ವಲ್ಪ ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ, ಇದು ಅಂತಿಮ ಉತ್ಪನ್ನದ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರಬಹುದು
ಭೌತಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ (ಪಿವಿಡಿ)
- ತತ್ವ ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ: ಪಿವಿಡಿ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ವಸ್ತುವನ್ನು ಘನ ಸ್ಥಿತಿಯಿಂದ ಆವಿ ಸ್ಥಿತಿಗೆ ಭೌತಿಕವಾಗಿ ಪರಿವರ್ತಿಸುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ನಂತರ ತಲಾಧಾರದ ಮೇಲೆ ಘನೀಕರಿಸಿ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ವಿಧಾನವು ಚಲನಚಿತ್ರ ದಪ್ಪ ಮತ್ತು ಸಂಯೋಜನೆಯ ನಿಖರವಾದ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಶಕ್ತಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ.
- ಪ್ರಯೋಜನಗಳು: ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆ, ಉನ್ನತ-ಏಕರೂಪತೆಯ ಚಲನಚಿತ್ರಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಸಾಧ್ಯವಾಗುತ್ತದೆ, ಆಪ್ಟೊಎಲೆಕ್ಟ್ರೊನಿಕ್ಸ್ ಮತ್ತು ಅರೆವಾಹಕ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳನ್ನು ಬೇಡಿಕೊಳ್ಳಲು ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.
- ಮಿತಿಗಳು: ಸಲಕರಣೆಗಳ ವೆಚ್ಚಗಳು ಮತ್ತು ನಿರ್ವಹಣಾ ವೆಚ್ಚಗಳು ಹೆಚ್ಚು, ಮತ್ತು ಉತ್ಪಾದನಾ ದಕ್ಷತೆಯು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ.
ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ (ಸಿವಿಡಿ)
- ತತ್ವ ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ: ಸಿವಿಡಿ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ರಾಸಾಯನಿಕ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳ ಮೂಲಕ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ನಿಯೋಬಿಯಂ-ಒಳಗೊಂಡಿರುವ ಅನಿಲ ಪೂರ್ವಗಾಮಿಗಳನ್ನು ಕೊಳೆಯುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ತಲಾಧಾರದ ಮೇಲೆ ಸಂಗ್ರಹಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಪರಮಾಣು ಮಟ್ಟದಲ್ಲಿ ಚಲನಚಿತ್ರ ಬೆಳವಣಿಗೆಯ ನಿಖರವಾದ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಶಕ್ತಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ.
- ಪ್ರಯೋಜನಗಳು: ಸಂಕೀರ್ಣ ರಚನೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಚಲನಚಿತ್ರಗಳನ್ನು ಕಡಿಮೆ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಉತ್ಪಾದಿಸಬಹುದು, ಮತ್ತು ಚಲನಚಿತ್ರದ ಗುಣಮಟ್ಟ ಹೆಚ್ಚಾಗಿದೆ, ಇದು ಸಂಕೀರ್ಣ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಆಪ್ಟೊಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಸಾಧನಗಳ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.
- ಮಿತಿಗಳು: ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ಸಂಕೀರ್ಣವಾಗಿದೆ, ವೆಚ್ಚವು ಹೆಚ್ಚಾಗಿದೆ, ಮತ್ತು ಪೂರ್ವಗಾಮಿ ಗುಣಮಟ್ಟವು ತುಂಬಾ ಹೆಚ್ಚಾಗಿದೆ.
ನ ಹೋಲಿಕೆAಸಣಕಕ್ಕೆ ಯೋಗ್ಯವಾದSನಾಲೆಯ
- ಪುಡಿ ಲೋಹಶಾಸ್ತ್ರ ವಿಧಾನ: ದೊಡ್ಡ-ಪ್ರದೇಶದ ಕೈಗಾರಿಕಾ ಲೇಪನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಂತಹ ದೊಡ್ಡ-ಪ್ರದೇಶ, ವೆಚ್ಚ-ಸೂಕ್ಷ್ಮ ಗುರಿ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.
- ಪಿವಿಡಿ: ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಏಕರೂಪತೆ ಮತ್ತು ನಿಖರವಾದ ದಪ್ಪ ನಿಯಂತ್ರಣದ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ತೆಳುವಾದ ಚಲನಚಿತ್ರ ತಯಾರಿಕೆಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಉನ್ನತ-ಮಟ್ಟದ ಆಪ್ಟೊಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಸಾಧನಗಳ ತಯಾರಿಕೆ ಮತ್ತು ನಿಖರ ಸಾಧನಗಳು.
- ಸಿವಿಡಿ: ಹೆಚ್ಚಿನ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಅರೆವಾಹಕ ಸಾಧನಗಳು ಮತ್ತು ನ್ಯಾನೊತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಸಂಶೋಧನೆಯಂತಹ ಸಂಕೀರ್ಣ ರಚನೆಗಳು ಮತ್ತು ವಿಶೇಷ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಚಲನಚಿತ್ರಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.
ಬುದ್ದಿAನ ನಲಿಸಿಸ್Key Aಬೆನ್ನಟ್ಟುವಿಕೆAಆಪಾದನೆNಅಯೋಬಿಯಮ್OಇಳಿಜಾರುTಅರ್ಜೆಟ್ಸ್
1. ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್Fಐಲ್ಡ್
- ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಹಿನ್ನೆಲೆ: ಅರೆವಾಹಕ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ಆಧುನಿಕ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಉಪಕರಣಗಳ ತಿರುಳು ಮತ್ತು ವಿದ್ಯುತ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಮತ್ತು ವಸ್ತುಗಳ ರಾಸಾಯನಿಕ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.
- ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ನ ಪಾತ್ರ: ಅದರ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ವಿದ್ಯುತ್ ನಿರೋಧನ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಡೈಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ಸ್ಥಿರದಿಂದಾಗಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ನಿರೋಧಕ ಪದರಗಳು ಮತ್ತು ಗೇಟ್ ಡೈಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ವಸ್ತುಗಳ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಅನ್ನು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಅರೆವಾಹಕ ಸಾಧನಗಳ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ ಮತ್ತು ವಿಶ್ವಾಸಾರ್ಹತೆಯನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ.
- ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ: ಸಮಗ್ರ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್‌ಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಾಂದ್ರತೆ ಮತ್ತು ಸಣ್ಣ ಗಾತ್ರದ ಕಡೆಗೆ ಬೆಳೆಯುತ್ತಿದ್ದಂತೆ, ಮೈಕ್ರೋಎಲೆಕ್ಟ್ರೊನಿಕ್ಸ್ ಮತ್ತು ನ್ಯಾನೊತಂತ್ರಜ್ಞಾನದಲ್ಲಿ ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಗುರಿಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಮುಂದಿನ ಪೀಳಿಗೆಯ ಅರೆವಾಹಕ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯನ್ನು ಉತ್ತೇಜಿಸುವಲ್ಲಿ ಪ್ರಮುಖ ಪಾತ್ರ ವಹಿಸುತ್ತದೆ.
2. ಆಪ್ಟೊಎಲೆಕ್ಟ್ರೊನಿಕ್ಸ್Fಐಲ್ಡ್
- ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಹಿನ್ನೆಲೆ: ಆಪ್ಟೊಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಸಂವಹನ, ಲೇಸರ್ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ, ಪ್ರದರ್ಶನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಇತ್ಯಾದಿಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿದೆ. ಇದು ಮಾಹಿತಿ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಒಂದು ಪ್ರಮುಖ ಶಾಖೆಯಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ವಸ್ತುಗಳ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮೇಲೆ ಕಟ್ಟುನಿಟ್ಟಾದ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.
- ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ನ ಪಾತ್ರ: ಹೆಚ್ಚಿನ ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಸೂಚ್ಯಂಕದ ಲಾಭ ಮತ್ತು ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ನ ಉತ್ತಮ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಪಾರದರ್ಶಕತೆ, ತಯಾರಾದ ಚಲನಚಿತ್ರಗಳನ್ನು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್‌ಗಳು, ಪ್ರತಿಫಲಿತ ವಿರೋಧಿ ಲೇಪನಗಳು, ಫೋಟೊಟೆಕ್ಟರ್‌ಗಳು ಇತ್ಯಾದಿಗಳಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಸಾಧನಗಳ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ. ದಕ್ಷತೆ.
- ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ: ಆಪ್ಟೊಎಲೆಕ್ಟ್ರೊನಿಕ್ಸ್ ಕ್ಷೇತ್ರದಲ್ಲಿ ಎನ್ಐಒಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಗುರಿಗಳ ಅನ್ವಯವು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಸಾಧನಗಳ ಚಿಕಣಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಏಕೀಕರಣವನ್ನು ಉತ್ತೇಜಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಹೆಚ್ಚಿನ ವೇಗದ ಸಂವಹನ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ-ನಿಖರ ದ್ಯುತಿವಿದ್ಯುತ್ ಪತ್ತೆ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಗೆ ಪ್ರಮುಖ ಬೆಂಬಲವನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ.
3. ಲೇಪನMಸಮರೋಗದFಐಲ್ಡ್
- ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಹಿನ್ನೆಲೆ: ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ವಸ್ತು ರಕ್ಷಣೆ, ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಅಲಂಕಾರದಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕ ಶ್ರೇಣಿಯ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಲೇಪನ ವಸ್ತುಗಳ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಗಾಗಿ ವೈವಿಧ್ಯಮಯ ಬೇಡಿಕೆಗಳಿವೆ.
- ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ನ ಪಾತ್ರ: ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಜಡತ್ವದಿಂದಾಗಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನ ನಿರೋಧಕ ಮತ್ತು ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ನಿಯೋಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಗುರಿಗಳನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅವುಗಳನ್ನು ಏರೋಸ್ಪೇಸ್, ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಇತರ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಇದಲ್ಲದೆ, ಅದರ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಮಸೂರಗಳು ಮತ್ತು ವಿಂಡೋ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಸೂಕ್ತ ಆಯ್ಕೆಯಾಗಿದೆ.
- ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ: ಹೊಸ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಹೊಸ ವಸ್ತು ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯೊಂದಿಗೆ, NIOBIUM ಆಕ್ಸೈಡ್ ಆಧಾರಿತ ಲೇಪನ ವಸ್ತುಗಳು ಶಕ್ತಿಯ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಮತ್ತು ಪರಿಸರೀಯ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು, ಹಸಿರು ಮತ್ತು ಸುಸ್ಥಿರ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯನ್ನು ಉತ್ತೇಜಿಸುವಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ತೋರಿಸಿದೆ.